材料在真空镀膜机镀膜之前，需要进行清洗，也就是目前的真空清洗工艺。真空沉积机的真空清洗通常定义为在真空处理前从工件或系统材料表面去除不需要的物质的过程。由于污染物产生的气体和蒸汽源会使真空系统无法达到所需的真空度，因此对真空元件进行表面清洗处理是必要的。此外，污染物的存在也会影响真空元件连接处的强度和密封性能。

1. 真空加热清洗

在常压或真空下加热工件。促进其表面挥发性杂质的蒸发以达到清洗目的，这种方法的清洗效果与工件的环境压力、在真空中停留的时间长短、加热温度、污染物的种类、工件的材质等有关。原理是加热工件。增强吸附在其表面的水分子和各种碳氢化合物分子的解吸。解吸增强的程度与温度有关。为了在超高真空条件下获得原子级别的清洁表面，加热温度必须在450摄氏度以上。加热清洗法特别有效。但有时，这种治疗方法也会有副作用。由于加热过程，某些碳氢化合物可能聚集成较大的颗粒并分解成碳渣

2. 紫外线照射清洗

利用紫外线辐射分解表面碳氢化合物。例如，暴露在空气中15小时可以产生一个干净的玻璃表面。如果将经过适当清洗的表面置于产生臭氧的紫外线源中。一个干净的表面(过程清洗)可以在几分钟内形成。这表明臭氧的存在提高了洁净度。其清洗机理是在紫外线照射下，污垢分子被刺激解离，臭氧的产生和存在产生高活性的氧原子。被激发的污垢分子和由污垢解离产生的自由基与氧原子相互作用。形成更简单、更易挥发的分子。